抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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InをドーブしたCdCr,S,単結晶を真空中で焼なましするとn型で165Kで比抵抗は1049cm位になる。これにlnまたはAgを蒸着すると界面は高抵抗かつ新しい磁化率を示す。この高抵抗層の厚みは印加電圧によらず,磁気的整列を共に減少する。例えば接合容量はT,(88.5K)近くで6KOeの磁場により約%になる。これらの諸現象は表面層でのスピン整列に基くバンド構造の変化に起因する事が分つた;写図7参9