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J-GLOBAL ID:201602012052733338   整理番号:71A0106301

低密度流れにおける分子回転温度の測定

Rotational temperature measurements in low-density flows.
著者 (2件):
資料名:
巻:号: 11  ページ: 2078-2080  発行年: 1970年 
JST資料番号: C0248C  ISSN: 0001-1452  CODEN: AIAJAH  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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一様流マッハ数約6,レイノルズ数370/cmの流れに平板をおき,衝撃層内の分子密度及び回転温度分布が電子ビーム発光法で測定された。試験気体はN2で冷たい平板条件である。発光法の測定値から衝撃層内圧力分布を求め,平板上の峰圧孔測定値との比較もなされる。この比較は回転温度解析に2次電子効果を考慮したものを使用したがこれが正当であることを示した。なお弱い相互作用域より前方の領域における圧力分布は壁と直角方向に一定ではなく,著しいこう配をもっている。この実験のように非常に冷たくはない壁条件の場合,粘性流域での圧力こう配が小さくない点を理論上考慮すべきである;写図3参12
シソーラス用語:
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