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J-GLOBAL ID：201602012131137236   整理番号：71A0131034

ヘキサ(ジメチルスルホキシド)ニッケル(II)の錯体生成反応の速度五配位中間体

On the rates of complex formation reactions of hexa(dimethyl sulfoxide)nickel(II). The five-coordinate intermediate problem.

著者 (2件)： LANGFORD C H ,  TSIANG H G
資料名： Inorg Chem  (Inorganic Chemistry)
巻： 9  号： 10  ページ： 2346-2350  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0566A  ISSN： 0020-1669  CODEN： INOCAJ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題の錯体Ni(DMSO)²⁺₆イオンとSCN^-およびムレキシドイオン(DMSO中)との錯生成反応の速度を調べ,Ni(DMSO)²⁺₆とビピリジンとの反応速度と比較。これらの三つの錯体生成速度は溶媒交換速度から予想される値よりかなり小さく,Ni(OH₂)²⁺₆の錯生成と溶媒交換速度に関係しない。このことは五配位中間体Ni(DMSO)²⁺₅が生成すると仮定することによって説明される。DMSO中における反応機構を調べるため,CH₃NO₂-DMSO混合系における錯生成反応や水中におけるムレキシド陰イオンとNi(OH₂)²⁺₆の反応を検討;写図3表1参21

シソーラス用語： ニッケル ,  ニッケル錯体 ,  配位子交換
準シソーラス用語： ジメチルホキシド ,  ニッケル/ヘキサキス(ジメチルホキシド)(配位子交換) ,  ヘキサキス ,  配位子交換(ニッケル錯体)

タイトルに関連する用語 (4件)： ジメチルスルホキシド ,  ニッケル ,  錯体生成 ,  中間体