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J-GLOBAL ID：201602012201189670   整理番号：70A0275834

電子照射した金属イオンビームからの蒸着での金属薄膜の成長

Рост металлических пленок при конденсации из пучка. облученного электронами.

著者 (4件)： ПОСТНИКОВ В С ,  ЗОЛОТУХИН И В ,  МОРГУНОВ В Н ,  ИЕВЛЕВ В М
資料名： Fiz Met Metalloved  (Fizika Metallov i Metallovedenie)
巻： 29  号： 2  ページ： 441-442  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0032A  ISSN： 0015-3230  CODEN： FMMTA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： エピタキシャル成長に対するイオン化した金属原子の役割を明らかにしようとした。金属原子のイオンビームは,イオンプラズマ法で作り,最大1000eVのエネルギーを有する電子ビームで蒸着させた。Au,AgおよびAlの最大の厚さが500Åの薄膜をNaCl単結晶の(001)面上で作製した。電子ビームを作用させると,イオン化した原子の数が増加し,エピタキシャル成長が促進される。薄膜とNaCl面との方位関係は,(001)〓(001)_NaCl)である;写図2参7

シソーラス用語： エピタクシー ,  蒸着 ,  電子ビーム
準シソーラス用語： エピタキシャル成長 ,  エピタキシャル成長(電子ビーム蒸着) ,  蒸着(電子ビーム/エピタキシャル成長) ,  電子ビーム蒸着

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子照射 ,  金属イオン ,  ビーム ,  蒸着 ,  金属薄膜 ,  成長