文献
J-GLOBAL ID:201602012329462400   整理番号:73A0057601

電子線照射中のNiにおける侵入型原子と原子空孔の集合体の成長

Growth of interstitial and vacancy agglomerates in nickel during electron irradiation.
著者 (1件):
資料名:
ページ: 275-282  発行年: 1971年 
JST資料番号: K19710085  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
高圧電子顕微鏡中で高温で電子照射したNiにおける侵入型原子と原子空孔の集合体の成長をしらべた。侵入型転位ループは20~550°Cで認められ,200~420°Cでは原子空孔ループも認められた。またこの2種類のループの相互作用によって刃状転位の応力場でFrenkel欠陥が分離し,侵入型原子が刃状転位に優先的に吸収されることが明らかにされた。この優先的な吸収はボイド成長に必要であり,ボイドは不純物を含む試料でだけ生成した。ボイドの生成は280~600°Cの温度範囲で認ぬられ,これらのボイドは730°Cで3~4時間で完全に消失する;写図4参10
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。


前のページに戻る