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J-GLOBAL ID：201602012453935456   整理番号：71A0039191

中性子を照射したUをドープした単結晶CaF₂で研究されたCaF₂中のAr,Kr,Xeの拡散

Diffusion of Ar. Kr. and Xe in CaF₂ investigated on U-doped single crystals of CaF₂ after neutron irradiation.

著者 (2件)： FELIX F W ,  LAGERWALL S Y T
資料名： Phys Status Solidi A  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 4  号： 1  ページ： 73-79  発行年： 1971年 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 700~1300°Cの間でのCaF,中へのAr,Kr.Xeの同時拡散を調べた。拡散係数は中性子線を照射後,反応して出来た放射性ガスの量から求められた。Kr,Xeにおいて放射性原子が出来るようにCaF,には0.05mol%のUをドープした。これらの結果から希ガスの拡散は格子間原子を移動している事がわかる;写図3表2参22

シソーラス用語： ふっ化カルシウム ,  拡散 ,  希ガス ,  中性子照射
準シソーラス用語： CaF₂

タイトルに関連する用語 (9件)： 中性子 ,  ドープ ,  単結晶 ,  CaF2 ,  研究 ,  Ar ,  Kr ,  Xe ,  拡散