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J-GLOBAL ID：201602012715798153   整理番号：71A0124799

鉄およびニッケルの膜のセレン化の機構

Mechanism of selenidation of iron and nickel films.

著者 (2件)： AL-HALDERY A M ,  SALEH J M
資料名： Trans Faraday Soc  (Transactions of the Faraday Society)
巻： 66  号： 12  ページ： 3113-3120  発行年： 1970年 
JST資料番号： E0274A  CODEN： TFSOA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 鉄とニッケルの膜とH₂Seの相互作用が-80~250°Cの間で研究された。早い解離吸着が両金属上ともにおこる。表面相の平均組織はH^〓_〓Seとして表わされ.nは表面被覆率や温度が増加すると減少する。-80°Cでの表面層の組成は鉄の上ではH_0.88Seに相当し,Ni上ではH_1.8Seに相当した。この温度で二,三の分子吸着がニッケル上で観察された。25°Cにおいて両金属表面層の完成がおこり.次いでバルクのセレン化合物の生成がおこる。ガスの浸透は一定温度,一定圧力のもとでは鉄よりもニッケルの方が早くおこる。25°C以上のH₂Seはセレン化物とガス状水素に定量的に転換する;写図5表2参8

シソーラス用語： セレン化水素 ,  ニッケル ,  吸着 ,  鉄
準シソーラス用語： H_〓Se ,  セレン化水素(吸着) ,  ニッケル(吸着) ,  吸着(H_〓Se) ,  鉄(吸着)

タイトルに関連する用語 (3件)： 鉄 ,  ニッケル ,  セレン化