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J-GLOBAL ID：201602012716804700   整理番号：58A0019813

水素イオンによる銀のスパタリング (放射性銀を含むターゲットをH⁺,H⁺₂,D⁺で衝撃を与えスパターされる銀の角分布を測定)

Sputtering of Silver by Hydrogen Ions.

著者 (3件)： O’BRIAIN C D ,  LINDNER A ,  MOORE W J
資料名： J Chem Phys  (Journal of Chemical Physics)
巻： 29  号： 1  ページ： 3-7  発行年： 1958年 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

分類 (1件)： (CB010101)

タイトルに関連する用語 (7件)： 水素イオン ,  銀 ,  スパタリング ,  放射性 ,  ターゲット ,  衝撃 ,  角分布