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J-GLOBAL ID：201602012745418959   整理番号：71A0049329

Fe-Si中の90°強磁性磁壁のX線トポクラフ像の微細構造

On the fine structure of X-ray topographic images of 90° ferromagnetis domain wails in Fe-Si.

著者 (2件)： POLCAROV M ,  LANG A R
資料名： Phys Status Solidi A  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 4  号： 2  ページ： 491-499  発行年： 1971年 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Fe-3wt%Si膜についてt膜厚(75-340μm).ブラッグ反射面反射次数,X線波長を変えて,トポグラフ像のしま模様を観測した。しまはX線干渉効果でなく90。壁の内部微細構造の像が主体であり,その模様はジグザグ構造の壁から生ずる;写図5表1参15

シソーラス用語： X線トポグラフィー ,  磁区構造 ,  磁壁
準シソーラス用語： Fe-Si合金 ,  強磁性膜

タイトルに関連する用語 (4件)： 強磁性 ,  磁壁 ,  X線 ,  微細構造