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J-GLOBAL ID：201602012774405386   整理番号：65A0169904

写真平板エッチング過程におけるのKODAK ORTHO RESIST 除去法

Method for use and removal of photosensitive chemical resist layers

著者 (2件)： GREGOR L ,  BRENNEMANN A E
資料名： IBM Tech Disclosure Bull  (IBM Technical Disclosure Bulletin)
巻： 7  号： 11  ページ： 987  発行年： 1965年 
JST資料番号： E0292B  ISSN： 0018-8689  CODEN： IBMTA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

タイトルに関連する用語 (5件)： 写真 ,  平板 ,  エッチング ,  過程 ,  除去法