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J-GLOBAL ID：201602012821580892 整理番号：70A0000798
4.2°K,18T(180kG)までのEvanohm抵抗
Evanohm resistance to 18 T (180 kG) at 4.2 K.
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著者 (1件)：
WOOLLAM J A
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資料名：
Rev Sci Instrum (Review of Scientific Instruments)
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巻：
41
号：
2
ページ：
284-285
発行年：
1970年
JST資料番号：
D0517A
ISSN：
0034-6748
CODEN：
RSINAK
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
短報
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Ni75%,Cr20%,A12.5%,Cu2.5%で作られたEvanohm抵抗線は磁場中の低温でよく使用される。広い温度範囲にわたって抵抗温度係数が低く,銅に対する室温熱起電力も低い特性をもっている。レルナとダウントは4,2.Kで5Tまでの磁場では抵抗変化は零であることを発見したが我々は18Tまでで0.9%変化することを発見した;写図1表1参3
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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