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J-GLOBAL ID：201602012905627789   整理番号：60A0049136

シリカゲルの数種の有機導体の物理化学的研究

Etude physico-chimique de quelques derives organiques d’un silicagel.

著者 (4件)： FRIPIAT J J ,  UYTTERHOEVEN J ,  SCHOBINGER U ,  DEUEL H
資料名： Helv Chim Acta  (Helvetica Chimica Acta)
巻： 43  号： 1  ページ： 176-181  発行年： 1960年 
JST資料番号： C0113A  ISSN： 0018-019X  CODEN： HCACAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE) 

抄録/ポイント： シリカゲルのブトキシ-,ブチル-,フェニル,トリメチルシロキシー誘導体の表面積(元のシリカゲルの84~88%,フェニルの場合は64%),ゲル表面上の有機基のち密度,燃焼熱,赤外線吸収などを研究

タイトルに関連する用語 (3件)： シリカゲル ,  有機導体 ,  研究