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J-GLOBAL ID：201602013083502489   整理番号：72A0280374

Cu(II)を溶解抑制剤としたLiF(100)面のエッチパターンと溶液内Cu(II)錯体の構造との関連

著者 (2件)： 森戸延行 (東北大・工) ,  末高わたる (東北大・工)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 36  号： 6  ページ： 577-584  発行年： 1972年 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 結晶がその不飽和溶液中に置かれると溶解が始まりいろいろの形状の転位のエッチ・ピットを形成する。ここではLiFの溶解抑制剤としてCu(II)を用いたときに形成されるエッチパターンについて研究した。その結果抑制剤濃度に対応して〈100〉または〈110〉方向の辺をもつエッチピットが形成すること,これが発生する原因としてはCu(II)の錯体構造の変化が考えられること,またCuCl₂濃度,NaCl添加量,pH,不飽和度等を変化させたときのエッチパターンの変化は,キング発生速度,錯体構造による吸着サイトの変化,抑制剤濃度を考えることにより統一的に説明できる;写図15参18

シソーラス用語： エッチピット ,  ふっ化リチウム ,  結晶構造 ,  転位 ,  腐食抑制剤

タイトルに関連する用語 (7件)： Cu ,  溶解 ,  抑制剤 ,  LIF ,  エッチ ,  溶液 ,  錯体