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J-GLOBAL ID：201602013308625364   整理番号：71A0122980

分子状酸素存在下γ線照射の際にガラス状炭化水素中での過酸化ラジカルの生成

Образование перекиснык радикалов в стеклообразных углеводородах при γ-облучении в присутствии молекулярного кислорода.

著者 (3件)： ЗИМИНА Г М ,  КАРАСЕВ А Л ,  БАХ Н А
資料名： Khim Vys Ehnerg  (Khimiya Vysokikh Ehnergij)
巻： 5  号： 2  ページ： 176-177  発行年： 1971年 
JST資料番号： R0270A  ISSN： 0023-1193  CODEN： KHVKAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： ESRと分光光度計を用いてCo⁶⁰γ線を77°Kで炭化水素に照射した時に生成する過酸化ラジカルを調べた。O₂が-~10^-2Mの時紫外部に260nmに吸収があり,そのESRシグナルにより過酸化ラジカルが生成していることがわかった;写図1表1参5

シソーラス用語： ペルオキシド ,  ラジカル ,  炭化水素 ,  放射線分解
準シソーラス用語： ペルオキシド(ラジカル) ,  ラジカル(ペルオキシド/炭化水素放射線照射) ,  過酸化ラジカル生成 ,  炭化水素放射線照射 ,  電子ラジカル共鳴 ,  電子ラジカル共鳴(過酸化ラジカル生成) ,  放射線分解(炭化水素)

タイトルに関連する用語 (5件)： 分子状酸素 ,  γ線照射 ,  炭化水素 ,  過酸化 ,  ラジカル