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J-GLOBAL ID：201602013406809198   整理番号：71A0371583

含窒素化合物の電解ふっ素化反応 n-プロピルアミン,ジエチルアミンおよひトリエチルアミンの電解ふっ素化

著者 (4件)： 張泰雄 (京大(工)) ,  築瀬紘 (京大(工)) ,  中西浩一郎 (京大(工)) ,  渡辺信淳 (京大(工))
資料名： 旭硝子工業技術奨励会研究報告  (Reports of the Asahi Glass Foundation for Industrial Technology)
巻： 16  ページ： 1-24  発行年： 1970年 
JST資料番号： G0061A  ISSN： 0365-2599  CODEN： AGKGAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN) 

抄録/ポイント： 題記反応に対する出発物質の濃度,電解温度,電流密度などの影響をガスクロマトグラフ,赤外分光法,マススペクトル,NMRなどを併用して検討.題記反応はNi陽極上に吸着したFまたはF₂によるラジカル反応で進行.反応生成物は10%(C₂H₅)₃NをのぞきC-C結合の裂断よりC-N結合の裂断が圧倒的に優勢である.生成するふっ化アミンの大部分は第三級アミンである.これらの事実からアミンが一度脱アルキル化を受けるとすべてのC-N結合が切れてNF₃を生成することが推測される.この点が化学的ふっ素化との大きな差になる.この特徴を結合エネルギーおよび電極上におけるアミンの吸着で説明:参23

タイトルに関連する用語 (7件)： 含窒素化合物 ,  電解 ,  ふっ素化反応 ,  プロピルアミン ,  ジエチルアミン ,  トリエチルアミン ,  ふっ素化