抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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モトローラの半導体部門でIC製作過程において使用される各種マスクの設計用計算機グラフシステムについて述べた。この計算機によるマスク製作システム(CAMP)は.自動設計器と同じ出力を出し,複雑な図を数時間~数日間で作図する。CAMPは,オン及びオフラインで作動し得る。回路計画や論理ダイヤグラムから入力はカード,ディジタイザまたはCRTにより入れられ,次いで計算処理をし,計算機に出力を出し縮写してマスクを得る。CADの装置は高いが,CADをする時の費用の大部分はソフトウェヤで決まるものである;写図7