抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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P-N接合の光伝導度,光電磁効果,光起電効果の応答曲線を測定し諸因子(表面再結合速度Sと拡散係数Dの比S/D,少数担体拡散距離L
N,L
Pを評価した。試料は電子濃度5×l0
16~1×10
17cm
-3のN形InAsにCdを拡散して作る。光伝導曲線よりn=2.3×10
16cm
-3試料でS/D=8×10
3cm
-1,L
P=1.5μm,D
P=2.7cm
2s
-1従ってS=2.2×10
4cm/sを得る。N形試料のS/Dは8×10
3~3×10
4cm
-1に変化する。光電磁効果からL
Nは1.5~5μmである。光起電応答で,曲線よ接合深度lが減ると短波長側にシフトを示す。l/Lは7~3程度である。lが減るとS/D
Nは10
5→4.3×10
3に減少しD
N増加によるものである。簡単な理論から評価したS/D,Lは実測と大体合う;図4表2参10