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J-GLOBAL ID：201602013817477021   整理番号：69A0019687

グロー放電と放射線法で作られた絶縁薄膜

Insulator thin films formed by glow discharge and radiation techniques.

著者 (1件)： MEARNS A M
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 3  号： 3  ページ： 201-228  発行年： 1969年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガスの非熱的活性化で作る薄膜についてその製法と性質特に電気的特性について総括的に述べた。有機垂合体膜についてはグロー放電重合法・電子線照射重合法,光分解法による製法を述べ,重合体膜生成のメカニズム,電気的性質を詳述し,無機絶縁膜についても製法と特性を述べた。その結果あらゆる意味で最良の方法は存在しなくて膜に要求する性質に応じた最適の方法を選ぷことが必要である。重合体膜の経時変化は保護膜としても電気的な応用を考えても問題がある;写図14表2参63

シソーラス用語： グロー放電 ,  放射線重合
準シソーラス用語： グロー放電(薄膜の製法) ,  重合体膜 ,  絶縁薄旗 ,  薄膜の製法

タイトルに関連する用語 (3件)： グロー放電 ,  放射線 ,  絶縁薄膜