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J-GLOBAL ID：201602013845050262   整理番号：71A0030901

クロムイオン衝撃下におけるクロム薄膜の結晶成長と反射係数

Orientiertes Wachstum and lichtoptischer Reflextonsk oeffizient unter Eigenionenbeschuss aufgedampfter Cr-Schichten.

著者 (1件)： KRIMMEL E F
資料名： Vak Tech  (Vakuum-Technik)
巻： 19  号： 6  ページ： 143-144  発行年： 1970年 
JST資料番号： E0348A  ISSN： 0042-2266  CODEN： VAKTA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： ドイツ語 (DE)

抄録/ポイント： 高真空中,室温で,40keVのクロムイオンを入射しながらガラス基板上に蒸着したクロム膜の光反射係数は通常の膜より大きく.反射電子回折によれば結晶化が進んでいることがわかった;写図1表1参6

シソーラス用語： イオン照射 ,  クロム ,  蒸着膜 ,  選択方位 ,  電子回折 ,  反射率

タイトルに関連する用語 (5件)： クロム ,  イオン衝撃 ,  薄膜 ,  結晶成長 ,  反射係数