抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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薄膜蒸発装置の理想的状態について述べ,要点を説明。例えば,薄膜を作る機構は加熱表面を引つかくことのないようにしなければならない。それは,一度加熱面にきずができるとホット・スポットが生じるためである。また,ワイピンク・アクションは非ニユートン的挙動を利用することが重要である。さらに,膜の滞留時間,経済的な考察から装置の大きさ,について検討。またこの装置の適用例のデータも与え,ストリッピング用として成功した応用例,加熱用としても利用されていることなどを述べた;写図2表1