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J-GLOBAL ID：201602013983245465   整理番号：70A0036091

タングステン上のYbとNd層の吸着と仕事関数

Адсорбция и работа вы хода слоев мттербия и неоди м а на вольфраме.

著者 (2件)： МАРИНОВА Ц С ,  ЗУБЕНКО Ю В
資料名： Fiz Tverd Tela  (Fizika Tverdogo Tela)
巻： 12  号： 2  ページ： 516-519  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0029B  ISSN： 0367-3294  CODEN： FTVTA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： Wの電子放出にたいするYbとNdの吸荊の効果を電界放出型電子顕微鏡で研究した。10-9Torrの真空中でYb-WおよびNd-W薄膜系の仕事関数の最小値はそれぞれ2.5および2.7eVである。二板以上の単原子層で覆われたときのこれらの系の仕事関数は被吸蒲体の仕事関数と一致する。Ybではψ,,=2.6±0.05eV,Ndではψ,,ニ3.1±0.05eV;写図3参5

シソーラス用語： タングステン ,  ネオジム ,  吸着 ,  仕事関数 ,  電子放出
準シソーラス用語： Nd-W ,  Yb-W ,  イッテルピウム ,  吸着(Yb-W/Nd-W) ,  電界電子顕微鏡法

タイトルに関連する用語 (5件)： タングステン ,  Yb ,  Nd ,  吸着 ,  仕事関数