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J-GLOBAL ID：201602014029640635   整理番号：71A0040497

高真空蒸着による銅単結晶層の作製

Zur Herstellung von Kupfer-Einkrist allschichten durch Hochvakuumaufdampfung.

著者 (2件)： KLEBER W ,  STUEDEMANN K
資料名： Krist Tech  (Kristall und Technik)
巻： 5  号： 4  ページ： 489-499  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0738A  CODEN： KRTEA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 東ドイツ (DDR)  言語： ドイツ語 (DE)

抄録/ポイント： 5-8×10-6Torrの真空中で(001)NaC1上へ蒸着した。基体は空中でへき開したもの,真空中で蒸着して作ったもの,および水で湿したもののいずれかである。得られた銅単結晶のエピタクシーについて基体温度,フィルム厚,凝縮速度との関係を透過電子顕微鏡,電子回折によって調べた。双晶の生成条件についても考察した;写図10表2参11

シソーラス用語： エピタクシー ,  蒸着 ,  単結晶 ,  電子回折 ,  銅

タイトルに関連する用語 (4件)： 真空蒸着 ,  銅 ,  単結晶 ,  作製