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J-GLOBAL ID：201602014158310455   整理番号：70A0382826

69化学プラントショー,化学プラント技術会議ハイライト

著者 (6件)： 上田重朋 ,  長坂秀雄 ,  小林俊治 ,  白戸紋平 ,  杉本泰治 ,  他3名
資料名： 化学工学  (Chemical Engineering of Japan)
巻： 34  号： 1  ページ： 9-40  発行年： 1970年 
JST資料番号： F0099A  ISSN： 0375-9253  CODEN： KKGKA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN) 

抄録/ポイント： (1)ライニング装置の設計と施工法,(2)ライニング装置の使用上の問題点と対策,(3)化学工場の掻音防止.(4)連続滬過装置の問題点と難滬過物買の処理技術,(5)逆浸透圧法の開発と応用,(6)頂空化学装置の大型化に伴う問題(7)ケミカルフロセスの積算,などのセクノヨンの会議服告.

タイトルに関連する用語 (3件)： 化学プラント ,  会議 ,  ハイライト