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J-GLOBAL ID：201602014450494044   整理番号：71A0045780

高濃度のOを含むN形Siの電気的性質に対する熱処理の影響

Влияние термической обработки на электрические свойства n-креиния. содержащего высокую концентрацию кислорода.

著者 (3件)： КУРИЛО П М ,  СЕИТОВ Е ,  ХИТРЕНЬ М И
資料名： Fiz Tekh Poluprovo  (Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov)
巻： 4  号： 12  ページ： 2267-2270  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0267A  ISSN： 0015-3222  CODEN： ETPPA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： Oを6×10‘icm“3含むN形Siを300<Ta<1200°Cの温度域で焼なましして.担体濃度,移動度,ホール係数および比抵抗のTaの依存性を300と77eKで測定した。濃度のTa依存性には,よく知られた450°C以外に950にも極大がある。後者は(Sio,).型の複合体の形成による;写図3参21

シソーラス用語： 酸素 ,  焼なまし ,  電気的性質 ,  熱処理
準シソーラス用語： Si中 ,  シリコン ,  酸素(Si中) ,  複合中心

タイトルに関連する用語 (4件)： 高濃度 ,  Si ,  電気的性質 ,  熱処理