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J-GLOBAL ID:201602014865335995   整理番号:64A0026437

大量にドープした場合の半導体中の不純物の振舞い

О поведении примесей в сильнолегированны полупроводниках.
著者 (3件):
資料名:
号:ページ: 2762-2770  発行年: 1964年 
JST資料番号: R0029B  ISSN: 0367-3294  CODEN: FTVTA   資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 旧ソビエト連邦 (SUN) 
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GeおよびSi単結晶に主としてV族不純物を大量にドープしてその構造をしらべた。不純物濃度が非常に高くなると,N形の場合,ドナーとして働かなくなる.これは,母体との複合体の形成,別の相の形成,構造的欠陥内部に不純物ガスができること,不純物による部分構造の形成,と関係している
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