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J-GLOBAL ID：201602014916909142   整理番号：70A0132748

ジポランからのほう素薄膜の調製と特性化

Preparation and characterization of boron films from diborane.

著者 (3件)： CROFT W J ,  TOMBS N C ,  FITZGERALD J F
資料名： Mater Res Bull  (Materials Research Bulletin)
巻： 5  号： 7  ページ： 489-494  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0954A  ISSN： 0025-5408  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： B₂H₆気体を1100°Cで水素ガスと共に熱分解して,いろいろの物質へのほう素の粘着性被膜を調製。被膜は不透明な金属的な外観であるが,より薄い場合には可視光線の赤領域を通す。透明電子顕微鏡,発光分光で検討した結果非常に純粋であり,Mo,Al(5)Mg(5)Siは観察されなかった。電子回析,赤外スペクトルで測定するとd_eba=3.96;2.46;1.45(h,k,t=1,1,1;1,3,1;6,0,0)。この方法は従来の方法に比較して被膜の合成には適した方法である;写図3参7

シソーラス用語： X線回折 ,  ジボラン ,  ほう素 ,  赤外スペクトル ,  電子回折 ,  熱分解 ,  薄膜
準シソーラス用語： ジボラン(熱分解/ほう素薄膜調製) ,  ほう素(薄膜調製) ,  ほう素薄膜 ,  ほう素薄膜調製 ,  赤外スペクトル(ほう素薄膜) ,  電子回折(ほう素薄膜) ,  薄膜(ほう素) ,  薄膜調製

タイトルに関連する用語 (4件)： ほう素 ,  薄膜 ,  調製 ,  特性化