文献

J-GLOBAL ID：201602015224697990   整理番号：65A0151431

酸化絶縁物の被膜中における硫酸塩イオンの残留

Об остаточном содержании сульфат-ионов в нксидных изоляционных покрытиях.

著者 (3件)： МАРКОВА Н Е ,  СУХОТИЛА Э А ,  ЧЕРНЫШЕВ В В
資料名： Ehlektrichestvo  (Ehlektrichestvo)
巻： 7  号： 8  ページ： 92-93  発行年： 1965年 
JST資料番号： R0027A  ISSN： 0013-5380  CODEN： ELEKA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN) 

抄録/ポイント： 近年の電子装置の発達は目覚ましぐ.その部品に対する特性への裂求も拡がり.広範囲な温度変化に対して良い温度特性をもつこと・高信頼度.高機械的耐力等が要求される.ここ,ではエレクトロニクスの多種多様な受動および能動素子の製造に一番重要な役割を果している無機系誘電体.特にセラミツタ誘電体の最近の発達振引を・紹介した.分類すると(1)コンテyサの絶縁材料.(2)ピエゾ効果など能動素子として.(3)非線形抵抗体用半導体セラミ‘ツタ.(4)記憶素子用の磁気セラミ’ツタに分けられ.その各々について温度特性その他の主な特性を.表:および図で一覧できるよ似まとめた;図8表4参5

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化 ,  絶縁物 ,  被膜 ,  硫酸塩イオン ,  残留