文献

J-GLOBAL ID：201602015365939190   整理番号：72A0031904

リフシッツの理論を用いこの液体ヘリウム膜を横切るファン・デル・ワールスカの計算

Calculations of van der Waals forces across films of liquid helium using Lifshitz theory.

著者 (2件)： RICHMOND P ,  NINHAM B W
資料名： J Low Temp Phys  (Journal of Low Temperature Physics)
巻： 5  号： 2  ページ： 177-189  発行年： 1971年 
JST資料番号： E0115C  ISSN： 0022-2291  CODEN： JLTPAC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： BaF,とCaF,基板上の液体ヘリウム膜に対して第三音波と膜の高さを計算するためにリフシッツのファン・デル・ワールスカの理論を用いた。計算された膜の高さは50A程度の実験値に対して非常によくあう。もっと小さい距離では,理論的には誘電体のデータが不完全なのにもかかわらず実験との比較は基板上の濃い膜できえも単原子の膜より小さい実効厚みをもつことを示している;写図2表5参22

シソーラス用語： 液体ヘリウム ,  第三音波 ,  誘電率
準シソーラス用語： Lifshitzの理論 ,  VanderWaals力 ,  ヘリウム膜

タイトルに関連する用語 (3件)： 理論 ,  液体ヘリウム ,  計算