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J-GLOBAL ID：201602015415960870 整理番号：64A0183260
エピタキシ中の不純物の拡散
Diffusion of impurities during epitaxy.
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著者 (1件)：
RICE W
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資料名：
Proc IEEE (Proceedings of the IRE)
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巻：
2
号：
3
ページ：
284-295
発行年：
1964年
JST資料番号：
D0378A
ISSN：
0018-9219
CODEN：
IEEPAD
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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エピタキ5/アル層および基板の両方における不純物の拡散を考えた。問題を記述する成分方程式および境界条件を与え,基板を半無限としたとき,および実際の厚さとしたときの両方について解を与えた。坊板を半無限としたときの不純物の拡散を計算機で解き。衣およびグラフで示した。実際のエピタキジ中の不純物の拡散と。より簡単な方法で計算した結果と比較してあまりよい一致が得られないことを示した;j18及2参9
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