文献

J-GLOBAL ID：201602016010286990   整理番号：70A0205146

銅-シリカ触蝶上でのエチレンによる酸化窒素の還元

Reduction of nitric oxide with ethylene on copper-silica catalyst.

著者 (2件)： SOTOODEHNIA-KORRINI A ,  NOBE K
資料名： I E C Process Des Dev  (I & E C. Process Design & Development)
巻： 9  号： 3  ページ： 455-459  発行年： 1970年 
JST資料番号： A0531B  ISSN： 0019-7882  CODEN： IEPDA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 270~430°Cにおける標記反応を研究した。酸化窒素とエチレンの濃度をそれぞれ300~1500ppm,および500~1500ppmに変化。キャリヤーガスとして窒素を使い,ガス流量は25°C,1atmで400l/hに維持した。積分および微分反応器を用いてデータを得た。その結果エチレンによる酸化窒素の接触還元は二酸化炭素,水および窒素になった。実験的動力学データを満足する相関式を与えた;写図7表2参14

シソーラス用語： エチレン ,  シリカゲル ,  一酸化窒素 ,  水素化 ,  担体 ,  反応速度論
準シソーラス用語： シリカゲル(担体) ,  積分反応器 ,  接触還元 ,  銅触媒 ,  反応動力学 ,  微分反応器

タイトルに関連する用語 (6件)： 銅 ,  シリカ ,  蝶 ,  エチレン ,  酸化窒素 ,  還元