抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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Teを1019cm-3の程度ドープしたGaAsのTe濃度の絶対値,格子点にあるTeのパーセンテージ.および自由キャリア濃度をアニールの関数として研究するために,2.5MeVのヘリウムイオンを用いた背面散乱とチャネリング効果の測定の赤外反射率プラズマ端の位置測定を行った。700°Cのアニールで,キャリア濃度は20±2%,格子点のTe原子の割合が減少した。1100°Cでアニール後,クェンチすると,キャリア濃度は7×1018cmP3に増加するが,Teの分布はもとの高い置換型に戻った;写図5表1参11