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J-GLOBAL ID：201602016983579397   整理番号：72A0034504

ハロゲンの化学吸着によるCuの自己拡散増加

Increase in the surface self-diffusion of copper due to the chemisorption of halogens.

著者 (2件)： DELAMARE F ,  RHEAD G E
資料名： Surf Sci  (Surface Science)
巻： 28  号： 1  ページ： 267-284  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cuの表面自己拡散に対する吸着ハロゲン(Cl. Br,1,)の効果を,1044・・383°Cで測定。 自己拡散係数D,は,10a程度増加して10-Fats-t。再構成された吸着層.つまり2次元ハライドの考えと2次元液体への融解で結果を説明した;写図8表1参33

シソーラス用語： ハロゲン ,  化学吸着 ,  銅
準シソーラス用語： 自己拡散係数

タイトルに関連する用語 (4件)： ハロゲン ,  化学吸着 ,  Cu ,  自己拡散