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J-GLOBAL ID:201602016994776240   整理番号:71A0359779

ESR-スペクトルによる放射線反応での初期過程の研究 I シリカゲルに吸着した1.3-ブタジエン

Electron spin resonance studies of primary processes in radiation-induced reactions. I. 1.3-butadiene adsorbed on silica gel.
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 131-144  発行年: 1971年 
JST資料番号: D0627A  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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シリカゲルに1.3-ブタジエンを吸着した系に77°Kでガンマ線を照射すると,3種のラジカルができることをESR-スペクトルからみとめた。第一は〔CH2-CH=CH-CH2ン〕・型のラジカル陽イオンで,このESR-スペクトルは,分離幅約11gaussの5本線からなっている。また,重合の生長過程は陽イオン的である。第二のラジカルは,CH2=CH-CH-CH2-R型のアリル型であり,重合鎖の末端に局在している。このラジカルのスペクトル線は,温度により変化する。第3のラジカルもまたアリル型でCH3-CH-CH=CH2の形および,これに水素原子が付加した形のラジカルである。この第3のラジカルはブタジエンの濃度を小さくしても,前処理として,シリカゲルをいくらか加温してもみとめられる(松井正夫)
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