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J-GLOBAL ID：201602017135798050   整理番号：71A0119189

照射有機結晶におけるラジカルの消滅

О гибели свободных радикалов в облученных органияческих кристаллах.

著者 (1件)： ТОЛКАЧЕВ В А
資料名： Khim Vys Ehnerg  (Khimiya Vysokikh Ehnergij)
巻： 4  号： 4  ページ： 322-327  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0270A  ISSN： 0023-1193  CODEN： KHVKAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： 表記固体の分子や極性基の可動性が凍結されている融解前領域におけるラジカルのアニールに関するデータと複素誘電率の実数部および虚数部とを比較。ラジカルの消滅は,結晶欠陥近くの分子の可動性および結晶中での液相の出現によって制限を受ける。消滅モデルを提案;写図1参28

シソーラス用語： アセトン ,  グリセリン ,  こはく酸 ,  フェノール ,  メタノール ,  ラジカル ,  放射線照射 ,  誘電率
準シソーラス用語： n-オクタノール ,  n-オクタノール(放射線照射) ,  アセトン(放射線照射) ,  グリセリン(放射線照射) ,  こはく酸(放射線照射) ,  フェノール(放射線照射) ,  メタノール(放射線照射) ,  ラジカル(消滅/照射有機結晶) ,  ラジカル消減 ,  ラジカル消減(照射有機結晶) ,  消滅 ,  照射有機結晶 ,  放射線照射(有機結晶) ,  有機結晶 ,  誘電率(照射有機結晶)

タイトルに関連する用語 (2件)： 有機結晶 ,  ラジカル