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J-GLOBAL ID：201602017151630950
整理番号：65A0257483
充填層反応装置の温度および濃度分布
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著者 (1件)：
資料名：
巻：
29
号：
5
ページ：
335-343
発行年：
1965年
JST資料番号：
F0099A
ISSN：
0375-9253
CODEN：
KKGKA4
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
不明
発行国：
日本 (JPN)
引用文献 (56件)：
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1) 明畠高司, 久保田宏:“最近の反応工学第1集” 槇書店 (1959)
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2) Amundson, N. R.: Ind. Eng. Chem, 48, 26, 35 (1956)
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3) Aria, R. and Amundson, N. R.: A.I. Ch. E. Journal, 3, 280 (1957)
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4) Baddour, R. F. and Yoon, C. Y.: Chem. Eng. Progr. Symposium Series on Heat Transfer-Buffalo, 57, 35 (1961)
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5) Baron, T.: Chem. Eng. Progr., 48, 118 (1952)
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