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J-GLOBAL ID：201602017292163999   整理番号：70A0033408

高周波スパッタ中の下地加熱の軽減

Reduction of substrate heating during rf sputtering.

著者 (2件)： LAMONT L T Jr ,  LANG A
資料名： J Vac Sci Technol  (Journal of Vacuum Science & Technology)
巻： 7  号： 1  ページ： 198-200  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0789A  ISSN： 0022-5355  CODEN： JVSTAL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 平行二極板における高周波スバッタ中の下地の加熱を下地の台と直列に高周波チョークを加えることにより減少。高周波チョークを加えることにより二次電子は交流周期の一部の間下地から反発され,イオンの下地への照射は不変のままに保たれる;写図2参5

シソーラス用語： スパッタ ,  加熱 ,  基板

タイトルに関連する用語 (2件)： 高周波スパッタ ,  下地