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J-GLOBAL ID:201602017370840242   整理番号:69A0070897

エチレンジアミン浴よりの銅めっき

著者 (3件):
資料名:
巻: 20  号:ページ: 26-31  発行年: 1969年 
JST資料番号: G0441A  ISSN: 0026-0614  CODEN: KZHGAY  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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各pH領域で存在するキレートの形を決定し,電解に適したpH範囲,電流密度を広く調べて,pH3.5~5.5の範囲で〔CuEn〕2+,pH6以上で〔CuEn22+のキレートを生成し,pH5.5-6.0ではこの両者が共存する。光沢があり,密着性の良好なめっきが得られる条件はCuSO4・5H2O:75~125g/1,En:40~65g/1,Na2SO4・10H2O:50g/1,(NH4)2SO4:50g/1,pH:6.5~8.7,温度10~50°C,陰極電流密度1.5~2.5A/dm2であることなどがわかった;写図10表3参10
シソーラス用語:
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引用文献 (10件):
  • 1) 乾, 細川, 羽島, 本誌, 18, 430 (1967)
  • 2) 乾, 細川, 丹生, 本誌, 19, 83 (1968)
  • 3) たとえば, N.V. Osetrova, P. C. Titov, NDVSH, Khimiya i Khim. Teknologiya 4, 782 (1958)
  • 4) たとえばN. V. Gudin, Chem. Abst., 61, 2718 d (1964)
  • 5) J. Bjerrum, E.T. Neilson, Acta Chem. Scand., 2, 307 (1948)
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