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J-GLOBAL ID：201602017472351017   整理番号：72A0046256

Ni-P薄膜のホール効果

Hall effect in thin films of nickel-phosphorus.
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著者 (2件)：
FLECHON J

FLECHON J について

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VIARD M

VIARD M について


資料名：
Czech J Phys Sect B  (Czechoslovak Journal of Physics. Section B)

Czech J Phys Sect B について


巻： 21  号： 4/5  ページ： 587-590  発行年： 1971年 
JST資料番号： B0329A  ISSN： 0011-4626  CODEN： CZYPAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧チェコスロバキア (CSK)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Ni-P薄膜を,液相中の酸化還元により作成し,ホール効果を測定。Pの存在は構造に重大な影響を与え,ホール効果に大きな変化をもたらすことを報告。実験結果は。電子伝導性を示し,強磁性体のホール効果の理論と良く一致;写図2表1参18
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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Hall効果

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磁性薄膜

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準シソーラス用語：
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Ni-P合金

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電子伝導

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タイトルに関連する用語 (2件)：
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薄膜

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ホール効果

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