抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
Siホイスカー成果には不純物の存在が重要であり,その成長端は小球形である。蒸気からの結晶成長の際,不純物は低融点をもつ液状合金核を形成し.ここに蒸気成分が集積して過飽Si液が生ずる。実験はSiの表面にAu,Pt,Ag,Pd,CuやNiの微粒子を附着させて950°Cで加熱する。ホイスカーの直径は1000~02mmが得られる。a-Ai2O3,SiCの成長もこの機構によるものと考えられる。ここに提唱した成畏機構大きい結晶やエピタクシー層の成畏にも広く適用しうる