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J-GLOBAL ID：201602017537384937   整理番号：66A0168184

H₂O雰囲気中における化学量論的粗成のSiO₂ガラスの結晶化に関する速度論的検討

Kinetics of crystallization of stoichiometric Si02 glass in H20atmospheres.

著者 (2件)： WAGSTAFF F E ,  RICHARDS K J
資料名： J Am Ceram Soc  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 49  号： 3  ページ： 118-121  発行年： 1966年 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： 高純度シリカガラスの真空,乾燥窒素および水蒸気飽和窒素雰囲気中における結晶化速度について,1300~1540°Cの間で反応速度論的に検討。上記いずれの場合においても結晶化速度は直線関係に従う。結晶化過程には本質的な結晶化,水蒸気の影響および炉内の不純物による3種の反応が作用するものと判断。SiO₂固有の結晶化に対する見かけの活性化エネルギーは134kca1/molであり,水蒸気中における結晶化の際の活性化エネルギーは77kcal/molであった;図6参9

タイトルに関連する用語 (6件)： H2O ,  雰囲気 ,  SiO2 ,  ガラス ,  結晶化 ,  速度論