抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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2,6-ジフェニルー4H-チオピラン-4-オンまたは2,6-ジフェニルー4π-ピラン-4-オン(I)にアルコール中,酸素存在下で光照射すると,安息香酸,ベンゾイル酢酸エステルが生成.一方Iまたは2,6-ジメチルー4H-チオピラン-4-オンのベンゼン中または各種溶媒中の光分解では,対応するかご状再結合生成物が得られた.1,2,6-トリメチル-4-ピリドンおよび6-メチル-1,2-ジフェニル-4-ピリドンを光照射しても光反応は起らなかった,これは,励起三重項を経過する反応機構と考えられる.安息香酸などの開裂生成物の生成には1,2-ジオキセタン中間体を通る機構が考えられる:参18