文献
J-GLOBAL ID:201602017751512691   整理番号:64A0081603

ジルコニウム上の絶縁体酸化物被膜の電解形成 I 定電流における電流効率と形成電場

Electrolytic formation of insulating oxide films on ziroconium.I.Current efficiency and formation field at constant current.
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 79-91  発行年: 1964年 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD) 
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
化学的に研摩した電極表面をもつジルコニウムを3桁の電流密度域6.5°~65°Cの定電位下で陽極酸化し,イオン化電流効率と場の形成を調べた。イオン化電流効率は0.40~1.0で低温度,高電流密度で。に近づく(酸化膜は約40Vで出来る)。膜の厚さは色と厚さおよび容量を測定して行った

前のページに戻る