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J-GLOBAL ID：201602017803808462 整理番号：72A0344578
特許全面開放1年の歩み
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著者 (1件)：
二味いわお
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資料名：
特許管理 (Patent Management)
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巻：
21
号：
11
ページ：
1077-1082
発行年：
1971年
JST資料番号：
G0276A
ISSN：
0287-8909
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
解説
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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日立製作所が特許全面解放に踏み出してから1年を経過したのを機会に,RCA以下米国の各社における技術開放の現状を述べ,企業経営における特許政策は未来志向型の経営政策の一環として,長期的かつ総合的にシステム化され,「特許システム時代」とならねばならぬとして,その社会的意義を論及し日立製作所における実例を紹介
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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