抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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Si02を含む非結晶媒質の中で核分裂破片を記録する方法を記述.核分裂破片で照射した,上記の如き媒質の表面をふっ化水素酸の溶液で処理すると,はっきりと認められる頂点を持つ円すい形のくぼみが現れ,その深さは4~6μに達する.この事実がここに述べる方法の基礎である.この方法の固有のバックグラウンドを知るために,10° m2 のガラス面を,上記処理を施して,観察したが,バックグラウンドの跡は認め得なかった.ガラスに含まれているUあるいはThのバッタグラウyドも極めて小さい.光学ガラスによる核分裂記録効率は40士10・;6.軽い荷電粒子に不感であることがこの方法の特徴である