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J-GLOBAL ID：201602017881245946   整理番号：70A0123825

電子顕微鏡および低温での窒素吸着によるシリカゲルの細孔構造の研究

Studies of the pore structures of silica gels by electron microscopy and low-temperature nitrogen adsorption.

著者 (2件)： ROBINSON E ,  ROSS R A
資料名： Can J Chem  (Canadian Journal of Chemistry)
巻： 48  号： 14  ページ： 2210-2214  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0228A  ISSN： 0008-4042  CODEN： CJCHAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： カナダ (CAN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 数種のシリカゲルの細孔構造を低温(-196°C)における窒素の吸着等温式および電子顕微鏡写真から研究。細孔の配列や大きさの変化を,より詳細にわかる電子顕微鏡写真と,吸着等温式から推定される結果とはよく一致した。ゲルの構造を加熱や過熱水蒸気あるいは硝酸で処理して変化させ,その影響を比較。その結果,水蒸気処理した場合に最終的な粒子の凝集過程に大きな変化があり,この凝集過程を従来の焼結機構の初期段階と比較;写図5表1参21

シソーラス用語： シリカゲル ,  吸着 ,  凝結 ,  焼結 ,  電子顕微鏡観察
準シソーラス用語： N₂ ,  シリカゲル(細孔構造) ,  吸着(N₂/シリカゲル) ,  凝結(シリカゲル) ,  細孔構造 ,  細孔構造(シリカゲル) ,  焼結(シリカゲル) ,  電子顕微鏡観察(シリカゲル)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子顕微鏡 ,  低温 ,  窒素吸着 ,  シリカゲル ,  細孔構造 ,  研究