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J-GLOBAL ID：201602017912935490   整理番号：72A0129896

白金およびタングステンへの化学吸着

Chemisorption on platinum and tungsten.

著者 (1件)： SALEH J M
資料名： Trans Faraday Soc  (Transactions of the Faraday Society)
巻： 67  号： 6  ページ： 1830-1836  発行年： 1971年 
JST資料番号： E0274A  CODEN： TFSOA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： HZS,H,Se,SO,およびCSの白金,タングステン膜への吸着をgO~250°Cの温度範囲で研究した。HS,H,Seの迅速な解離吸着は-80°Cで白金膜上でおこり,表面の被覆率が増すとHが気相中にあらわれる。W膜上のH,Se吸着は-80°CでH,の発生を伴わない。30°C以上ではPt上でよりゆっくりとしたHS,HZSeの吸若がおこり,その活性化エネルギーは46,24kJmollであった。W膜ではHSeの遅い化学吸培が活性化エネルー29kJmol-1で60°C以上でおこる。soZ,cs,についても同様の結果を得た;写図3参12

シソーラス用語： セレン化水素 ,  タングステン ,  吸着 ,  二硫化炭素 ,  白金 ,  硫化水素
準シソーラス用語： セレン化水素(吸着) ,  タングステン(吸着) ,  吸着(白金;タングステン) ,  二酸化いおう ,  二酸化いおう(吸着) ,  二硫化炭素(吸着) ,  白金(吸着) ,  硫化水素(吸着)

タイトルに関連する用語 (3件)： 白金 ,  タングステン ,  化学吸着