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J-GLOBAL ID：201602018283949803   整理番号：72A0065618

応力・ひずみ測定法 II 光弾性皮膜法塑性解析

著者 (1件)： 河田幸三
資料名： 塑性と加工  (Journal of the Japan Society for Technology of Plasticity)
巻： 12  号： 128  ページ： 710-721  発行年： 1971年 
JST資料番号： G0076A  ISSN： 0038-1586  CODEN： SOKAB   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光弾性的な手法で塑性解析を行なう方法は大別して,モデル光塑性と光弾性皮膜法塑性解析となる。皮膜法を用いる場合には反射型光弾性装置が必要であり,皮膜の選定いかんが光弾性皮膜法のキーポイントである。皮膜に要求される性質には,主屈折率差の主ひずみ差との比例関係が成立すること,ひずみ感度の高いことなど。エポキシ・ラバによって光弾性皮膜特性の検定,主ひずみ,主応力の解析などを実験によって求めた。また,この解析法の応用例として構造要素の局部的降伏開始から流れ限度,破壊にいたる過程の定量的追跡について説明し,有限要素法との比較を行なった;写図31表4参15

シソーラス用語： ひずみ測定 ,  応力測定 ,  光弾性 ,  光弾性試験

タイトルに関連する用語 (5件)： 応力 ,  ひずみ測定 ,  光弾性 ,  皮膜 ,  塑性解析