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J-GLOBAL ID：201602018358123230 整理番号：71A0034774
チタニヤウィスカ生成におけるシリコンの影響
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資料名：
応用物理 (JSAP International)
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巻：
40
号：
8
ページ：
870-875
発行年：
1971年
JST資料番号：
F0252A
ISSN：
0369-8009
CODEN：
OYBSA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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チタニヤ
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引用文献 (7件)：
1) 学術誌には見られないが. K. L. Berry: U. S. Patent (1961) 2, 980, 510.
2) D. C. Peace: U. S. Patent (1961) 3, 012, 857.
3) K. L. Berry: U. S. Patent (1962) 3, 030, 183.
4) 例えば,小竹無二雄等編築:実験化学講座 5 (丸善, 1958) p. 30.
5) G. W. Sears: Acta Met. 3 (1955) 361.
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