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J-GLOBAL ID：201602018581909563   整理番号：65A0015213

5~80keVの電子線の蒸着金属膜による多重散乱 III 反射と吸収

Multiple scattering of 5-30 keV electrons in evaporated metal films.III.Backscattering and absorption

著者 (2件)： COSSLETT V E ,  THOMAS R N
資料名： Br J Appl Phys  (British Journal of Applied Physics)
巻： 16  号： 6  ページ： 779-796  発行年： 1965年 
JST資料番号： B0092A  CODEN： BJAPA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR) 

抄録/ポイント： CuとAuの蒸着膜の5~25keVの電子線に対する反射を測定。薄膜の場合反射の50%は単一反射によることを示す。既存の理論と比較しEverhart.Bothe.Dashenのそれぞれの理論に実験値を合わせて検討する。吸収は電子線全体から透過と反射を除いて求め適当な方法で補正した。吸収された電子の深さ方向の分布を入射エネルギーの各値に対して求めた。特にCuの20keVにおける値はモンテ・カルロ計算によく一致した。吸収エネルギーの深さ方向の分布では表面直下にピークがある。Spencer,Ehrenbergらの研究と比較検討する;図12表2参41

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子線 ,  蒸着 ,  金属膜 ,  多重散乱