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J-GLOBAL ID：201602018595626165   整理番号：71A0147022

窒化チタンの気相成長と物理的性質

Vapour-phase crystallization and some physical properties of titanium nitride.

著者 (4件)： SYNIELNIKOWA W ,  NIEMYSKI T ,  PANCZYK J ,  KIERZEK-PECOLD E
資料名： J Less-Common Met  (Journal of the Less-Common Metals)
巻： 23  号： 1  ページ： 1-6  発行年： 1971年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0022-5088  CODEN： JCOMA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化チタンの薄層を化学輸送反応を用いた気相析出法によって得られることを見出した。すなわち四塩化チタンと水素と窒素の混合気体の反応を700°K以上で行なわせてチタン窒化物層を得た。その得られた層についての微小かたさおよびフォトンエネルギーの反射係数を調べるとともに有効質量に対するキャリア濃度の比を求めた。さらにフォトンエネルギーの反射曲線の理論的解析から誘電率および緩和時間を求めた。なおTiNの層としてはTiN_0.928~TiN_0.991の組成をもつものであった;写図4参10

シソーラス用語： 緩和時間 ,  気相成長 ,  有効質量 ,  誘電率
準シソーラス用語： フォトンエネルギー ,  四塩化チタン ,  窒化チタン

タイトルに関連する用語 (3件)： 窒化チタン ,  気相成長 ,  物理的性質